La reflectometría, a veces conocida como Reflectividad Especular de Rayos X (XRR), es una técnica analítica de superficie usada en química, física y en ciencia de los materiales para caracterizar las superficies, películas delgadas y multicapas con radiación de Rayos X

Está relacionada con ciertas técnicas complementarias de neutrones, y elipsometría. La idea básica de la técnica es incidir un haz monocromático de rayos x sobre una superficie plana a analizar evaluando, a continuación, la intensidad de los rayos x que se refleja en la dirección especular (ángulo reflejado igual al ángulo incidente). Si la capa analizada no está perfectamente plana y/o lisa, entonces la intensidad reflejada varía con respecto a la predicha por la Ley de reflectividad de Fresnel. A continuación se pueden analizar las desviaciones para obtener el perfil de densidad de la interfaz normal a la superficie.

El objetivo principal de este trabajo es caracterizar los principales parámetros físicos de las capas de grosor nanométrico y crecidas epitaxialmente, de tres muestras depositadas bajo tres condiciones diferentes.

Aquí tenéis el vínculo del trabajo referido.