Análisis de propiedades físicas de capas nanométricas por reflectometría de RayosX (XRR)
La reflectometría, a veces conocida como Reflectividad Especular de Rayos X (XRR), es una técnica analítica de superficie usada en química, física y en ciencia de los materiales para caracterizar las superficies, películas delgadas y multicapas con radiación de Rayos X
Está relacionada con ciertas técnicas complementarias de neutrones, y elipsometría. La idea básica de la técnica es incidir un haz monocromático de rayos x sobre una superficie plana a analizar evaluando, a continuación, la intensidad de los rayos x que se refleja en la dirección especular (ángulo reflejado igual al ángulo incidente). Si la capa analizada no está perfectamente plana y/o lisa, entonces la intensidad reflejada varía con respecto a la predicha por la Ley de reflectividad de Fresnel. A continuación se pueden analizar las desviaciones para obtener el perfil de densidad de la interfaz normal a la superficie.
El objetivo principal de este trabajo es caracterizar los principales parámetros físicos de las capas de grosor nanométrico y crecidas epitaxialmente, de tres muestras depositadas bajo tres condiciones diferentes.
Conviene describir cómo se pueden disponer un agregado polimérico desde un punto de vista estructural. De tal manera, por ejemplo, nos encontraremos con situaciones del tipo estructurado, amorfo o semicristalino. 
